Φωτοευαίσθητα Πολυμερικά Υλικά για Εφαρμογή στη Μικροηλεκτρονική και στη Μικρο-Νανοτεχνολογία

Ο σχεδιασμός και η ανάπτυξη Φωτοευαίσθητων /Ακτινοευαίσθητων Πολυμερικών Υλικών είναι ένας απο τους κρίσιμους τομείς έρευνας στην περιοχή της Μικροηλεκτρονικής. Τα υλικά αυτά χρησιμοποιούνται μέσω της διαδικασίας της Φωτολιθογραφίας για την κατασκευή των ολοκληρωμένων κυκλωμάτων (chips). Η τάση για σμίκρυνση των διαστάσεων των κυκλωμάτων (κυρίως όσων χρησιμοποιούνται ως μνήμες και επεξεργαστές ηλεκτρονικών υπολογιστών) επιβάλλει τη χρησιμοποίηση πολυμερικών υλικών ευαίσθητων σε ηλεκτρομαγνητική ακτινοβολία με συνεχώς μειούμενο μήκος κύματος (436nm, 365 nm, 248 nm και πρόσφατα 193 nm, 157 nm) ή και σε ηλεκτρονική δέσμη.

Θα παρουσιαστούν αντιπροσωπευτικά υλικά με βάση κυρίως ακρυλικά και φαινολικά πολυμερή που έχουν αναπτυχθεί στα πλαίσια της ερευνητικής αυτής δραστηριότητας στο Ινστιτούτο Μικρoηλεκτρονικής του ΕΚΕΦΕ Δημόκριτος.

Θα συζητηθούν επίσης νέες εφαρμογές φωτοευαίσθητων πολυμερικών υλικών στην ευρύτερη περιοχή των Μικροσυστημάτων και της Νανοτεχνολογίας. Θα παρουσιαστούν πρόσφατα αποτελέσματα από ερευνητικές δραστηριότητες που αναφέρονται α) σε διεργασίες σχηματοποίησης επιστρώσεων βιομορίων και β) σε χρήση μη συμβατικών υλικών για ανάπτυξη νανοδιατάξεων.

Ομιλητής: Παναγιώτης Αργείτης, Ινστιτούτο Μικροηλεκτρονικής, ΕΚΕΦΕ Δημόκριτος
Ώρα: Δευτέρα, 14 Ιανουαρίου 2002, 13:00